SU-8膠光刻工藝參數優化探討(pdf 7頁)
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- 工藝技術
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SU-8膠光刻工藝參數優化探討(pdf 7頁)內容簡介
SU-8膠光刻工藝參數優化探討內容提要：
對基於SU一8膠的UV—LIGA技術進行了工藝優化，研究了光源波長和曝光時間對SU一8膠成型的影響。結果表明，光刻膠表麵線寬變化隨曝光時間增加先減少後增加，有一個極小值；側壁角度先增加後減少，有一個極大值。通過優化光源波長、曝光時間以及顯影時間三個主要工藝參數，可以獲得側壁角度為90．64 o正角的300 ttm厚光刻膠微結構和側壁角度為89．98 o近似垂直的500 btm厚光刻膠微結構。
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對基於SU一8膠的UV—LIGA技術進行了工藝優化，研究了光源波長和曝光時間對SU一8膠成型的影響。結果表明，光刻膠表麵線寬變化隨曝光時間增加先減少後增加，有一個極小值；側壁角度先增加後減少，有一個極大值。通過優化光源波長、曝光時間以及顯影時間三個主要工藝參數，可以獲得側壁角度為90．64 o正角的300 ttm厚光刻膠微結構和側壁角度為89．98 o近似垂直的500 btm厚光刻膠微結構。
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